Những thách thức của việc sử dụng các mục tiêu vonfram là gì?

Điểm nóng chảy cao: Điểm nóng chảy cao của vonfram (3422 độ) yêu cầu hệ thống phun được vận hành ở nhiệt độ cao. Điều này đòi hỏi thiết bị mạnh mẽ hơn và đầu vào năng lượng cao hơn. Để khắc phục vấn đề này, các công nghệ phun nâng cao với các cơ chế sưởi ấm và làm mát được cải thiện đang được phát triển. Ví dụ, các nguồn RF điện cảm ứng hoặc công suất cao được sử dụng để làm nóng hiệu quả mục tiêu, trong khi các hệ thống làm mát tiên tiến được sử dụng để kiểm soát nhiệt độ tổng thể của buồng phun.

Phim căng thẳng: Phim vonfram có thể có những căng thẳng vốn có, có thể gây ra nứt hoặc bong tróc màng, đặc biệt là khi lắng đọng trong các điều kiện cụ thể hoặc ở độ dày cụ thể. Để kiểm soát các ứng suất này, các thông số xử lý như công suất phun, dòng khí và nhiệt độ cơ chất cần được tối ưu hóa cẩn thận. Ngoài ra, các phương pháp điều trị ủ sau vị trí có thể được sử dụng để làm giảm căng thẳng bên trong của bộ phim.

Các vấn đề liên kết mục tiêu: Do độ cứng và độ giòn cao của các mục tiêu vonfram, rất khó liên kết hiệu quả với tấm nền. Đây là một bước cần thiết để tản nhiệt hiệu quả và ổn định cơ học trong quá trình phun. Các kỹ thuật liên kết mới đang được khám phá, chẳng hạn như sử dụng chất kết dính chuyên dụng hoặc các phương pháp kẹp cơ học được cải thiện để đảm bảo liên kết mạnh mẽ và đáng tin cậy giữa mục tiêu vonfram và tấm nền.