Mục tiêu vonfram được sử dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực, chủ yếu bao gồm sản xuất chất bán dẫn, thiết bị nguồn neutron va đập, quy trình quang khắc, công nghệ lắng đọng màng mỏng, thiết bị nhiệt hạch hạt nhân, v.v.
Ứng dụng trong sản xuất chất bán dẫn
Trong sản xuất chất bán dẫn, mục tiêu vonfram chủ yếu được sử dụng trong quy trình quang khắc và công nghệ lắng đọng màng mỏng. Mật độ cao, độ cứng cao và khả năng phản ứng hóa học thấp của mục tiêu vonfram cho phép chúng cung cấp khả năng kiểm soát ăn mòn chính xác trong quá trình ăn mòn plasma, giảm tổn thất vật liệu không cần thiết và đảm bảo độ mịn và tính toàn vẹn của các mẫu mạch. Trong công nghệ lắng đọng màng mỏng, mục tiêu vonfram được tạo thành màng dày đặc thông qua quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD) và lắng đọng hơi hóa học (CVD). Những màng này có độ cứng và khả năng chống mài mòn cao, giúp cải thiện độ bền cơ học và độ bền của các thiết bị bán dẫn. Đồng thời, độ dẫn điện cao và trở kháng thấp giúp cải thiện hiệu suất dẫn dòng điện và giảm mức tiêu thụ điện năng.
Ứng dụng trong các nguồn neutron va đập
Các mục tiêu vonfram cũng đóng một vai trò quan trọng trong các thiết bị nguồn neutron va đập. Các nguồn neutron va chạm tạo ra neutron bằng cách bắn phá hạt nhân nguyên tử nặng bằng proton năng lượng cao, được sử dụng để nghiên cứu cấu trúc vi mô và tính chất động của vật chất. Vonfram đã trở thành vật liệu được ưa chuộng cho các thiết bị nhiệt hạch hạt nhân và nguồn neutron va đập do điểm nóng chảy cao, độ dẫn nhiệt cao và tốc độ phún xạ thấp. Các nguồn neutron va đập có thể cung cấp phổ năng lượng neutron rộng hơn, mở rộng phạm vi nghiên cứu khoa học neutron, đặc biệt là trong nghiên cứu khoa học vật liệu. Việc áp dụng mục tiêu vonfram giúp nghiên cứu vật liệu lưu trữ hydro, định luật phản ứng của pin và phát triển vật liệu mới.