Lớp phủ quang học
Sử dụng:Mục tiêu niobiumđược sử dụng để gửi các màng NB phản xạ cao (ví dụ: độ phản xạ> 95% ở góc tới 45 độ) trong laser và máy dò hồng ngoại.
Các tham số quá trình: Áp suất phun khí AR 0. 5 Pa, mật độ công suất 3 w/cm², tốc độ lắng đọng khoảng 10nm/phút.
Bao bì điện tử
Sử dụng: tạo thành mục tiêu tổng hợp với đồng để chuẩn bị chất nền đóng gói với độ dẫn nhiệt cao và hệ số giãn nở nhiệt thấp.
Cấu trúc điển hình: Mục tiêu tổng hợp đa lớp Cu/Nb/Cu, độ dẫn nhiệt> 200 W/(M · K).
Hiển thị hình ảnh chi tiết sản phẩm mục tiêu Niobium có độ tinh khiết cao
Mục tiêu niobi cao tinh khiết
Kim loại mục tiêu niobi cao tinh khiết